半導体製造装置の停止リスクを最小化する
半導体製造現場では、微粒子汚染や化学薬品漏れ、火災・煙害、浸水など、わずかな異物や汚染でも製品品質と稼働率に大きな影響を与えます。リカバリープロは、クリーンルーム規格に準拠した除染・復旧により、生産ラインのダウンタイムを最小化し、早期の操業再開を実現します。
私たちのサービスについて
あらゆる半導体製造環境に対応できる復旧・除染サービス
ISO基準準拠・ナノレベル清浄化で、装置と生産環境を守ります。
半導体製造装置やクリーンルームは、極めて高い清浄度が求められる環境です。微細な異物や化学汚染でも、製品歩留まりや信頼性に直結する重大リスクとなります。
リカバリープロは、半導体復旧に必要な高水準の作業環境を確保し、装置本体・内部配管・クリーンルーム内構造体・フィルター・床面など多岐にわたる設備の除染・復旧を一貫対応します。
リカバリープロの半導体製造装置復旧・除染の特徴
- ISO規格・各メーカー仕様に準拠したクリーンルーム対応
- ナノレベル（1nm単位）の清浄化技術で微粒子・化学残渣を除去
- 微粒子カウンター・表面サンプリングによる汚染度測定
- 装置停止時間を最小化する並行工程（除染・部品交換・検証）
初動から検証・報告まで、一貫した安全なプロセス
事業継続性を重視したスピードで復旧対応します。
- 初動対応で汚染拡大を防止：微粒子や化学物質が生産エリアに広がる前に封じ込め、被害を局所化
- 現地調査と被害評価：汚染源・影響範囲・復旧可否を迅速に判定し、最適工程を策定
- 除染・乾燥・部品交換の並行実施：ダウンタイムを短縮するため、複数工程を同時進行
- 検証・試運転・品質確認：粒子数測定や化学残留検査で清浄度を確認
- 報告書：復旧経過・測定結果・改善提案をまとめた報告書を提出